Çin Sanayi ve Bilgi Teknolojileri Bakanlığı’nın web sitesinde yayınlanan bir belgeye göre, Hollanda hükümetinin ASML’nin eski DUV tabanlı çip üretim makinelerini satmadan önce lisans almasını gerektiren son yaptırımlarıyla birlikte Çin’in kendi DUV tarayıcısını geliştirdiği iddia ediliyor.
En yeni ekipmanlar yalnızca ASML tarafından üretildiği için çip üretim makineleri Çin için değerli bir meta haline geldi. Yerel Çin makinesi ise, yapay zeka yazılımının en yüksek performans için en yeni yarı iletkenleri gerektirdiği bir çağda, ülkenin sektörde ilerlemek için Batı ürünlerine olan bağımlılığını azaltmasına yardımcı olabilir.
Belgede Çin’in en yeni DUV litografi makinesinin üç temel detayı özetleniyor: çözünürlük, dalga boyu ve kaplama. Tarayıcı, küresel yarı iletken endüstrisinde yaklaşık yirmi yıldır kullanılan bir Argon Florür makinesi. 193 nanometre dalga boyunda ışık kullanıyor ve 65 nanometre çözünürlükte çip basabiliyor. Bu çözünürlük, Hollandalı çip üretim ekipmanı devi ASML’nin müşterileri tarafından en az 2009 yılına kadar ArF makineleri aracılığıyla kullanılabiliyordu.
ASML’nin en son ürün portföyü açısından en yakın eşleşme TWINSCAN XT:1460K tarayıcı. Bu makine de 65 nanometreden daha düşük bir çözünürlüğe sahip ve 193 nanometre Argon Florür ışık kaynağı kullanıyor. Bununla birlikte, kaplama tekniği 2,5 nanometreden az olduğu için Çin’deki makineden daha ileri düzeyde ve Çin bakanlığı tarafından iddia edilen 8 nanometrelik kaplamadan çok daha üstün.
Yarı iletken üretimi, bir silikon plaka üzerine küçük devreler basmak için ışığı manipüle etmeyi içerdiğinden, kalitesi ve teknik parametreleri ışığın manipülasyonu ile ilgili. Bir çip makinesinin çözünürlüğü basitçe bir makinenin basabileceği minimum özellik boyutu olarak tanımlanır. Bu boyut, en önemlilerinden bazıları makinenin sayısal açıklığı, odak derinliği ve maske boyutu olan çeşitli diğer faktörlere bağlı.
Daha yüksek bir sayısal açıklık, daha düşük çözünürlük anlamına gelir ve çip üreticilerinin çip boyutlarını küçültmesine olanak tanır. Bir makinenin kaplaması, bir yonga plakası üzerindeki mevcut desenler üzerine yeni desenleri eşleme yeteneğidir. Çip üretimi, elektrik iletkenliği için devre desenlerini basmak üzere bir maske kullandığından, daha küçük kaplama özelliklerine sahip makineler, devrelerin sıkıca paketlenmesine izin verdikleri için daha iyidir.
ASML ilk olarak 2005 yılında TWINSCAN çip makinelerini tanıttı. O zamandan beri firma, immersion makinelerine ve yavaş yavaş endüstrinin dayanak noktası haline gelen daha yeni EUV araçlarına geçti. Şu anda mevcut olan TWINSCAN:XT:1460K makinesine en yakın olan TWINSCAN:XT 1460 tarayıcısı, ilk olarak firmanın 2015 yıllık raporunda 65 nanometre çözünürlük ve 193 nanometre ışık dalga boyu ile ortaya çıktı.
1460’tan önce, 1450 tarayıcı 2009’a kadar uzanan yıllık raporlarda yer alıyordu. Bu tarayıcı 57 nanometre çözünürlüğe sahipti ve firmanın non immersion litografi portföyündeki en son makineydi.
