South China Morning Post’un haberine göre Çin hükümeti, ABD yaptırımlarının ortasında yabancı çip üretim araçlarına bağımlılığı azaltmak için iki yeni litografi makinesini destekliyor. Bu makineler kayda değer teknolojik gelişmeler gösterse de, hala ASML ve Nikon gibi sektör liderlerinin gerisinde.
Bu iki makine, argon florür lazerler içeren derin ultraviyole (DUV) litografi cihazlarından oluşuyor. Biri 193nm dalga boyunda çalışarak 65nm’nin altında bir çözünürlük ve 8nm’nin altında bir kaplama hassasiyeti sunuyor. Diğeri ise 248nm dalga boyunda çalışarak 110nm çözünürlük ve 25nm kaplama hassasiyeti sunuyor.
Şu anda Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE) tarafından yüksek hacimlerde üretilen en iyi Çin lito aracı – SSX600 – 90nm işlem teknolojisinde çip üretebiliyor. Bu nedenle, yeni DUV araçlarından biri SSX600’den daha iyi, diğeri ise SSX600’den daha kötü. Ancak, ASML’nin NXT:1980Fi ve Nikon’un NSR-S636E’sinin önemli ölçüde gerisindeler. ASML’nin şu anda üretilen en az gelişmiş DUV makinesi 38nm’nin altında bir çözünürlüğe ve sadece 1,3nm’lik bir kaplama hassasiyetine sahip. Nikon’un en gelişmiş aracı da 38nm çözünürlüğe ve 2,1nm kaplama performansına sahip. Tom’s Hardware’in hazırladığı tabloya aşağıdan bakabilirsiniz.
| Başlık | NXT:1980Fi | NSR-S636E | Litho Tool 1 | Litho Tool 2 |
|---|---|---|---|---|
| Işık Kaynağı | ArF 193nm | ArF 193nm | ArF 193nm | ArF 248nm |
| Çözünürlük | 38nm | 38nm | 65nm | 110nm |
| Projeksiyon Optikleri | 1.35 NA | 1.35 NA | ? | ? |
| Saat başına Wafer | 330 | 280 | ? | ? |
| Kaplama Performansı | 1.3nm | 2.1nm | 8nm | 25nm |
Yeni sistemler Çin’in yerli çip üretim çabalarında bir atılımı temsil ediyor, ancak makineler henüz ticari olarak mevcut değil. Sanayi ve Bilgi Teknolojileri Bakanlığı (MIIT) bu ilerlemelerin altını çizdi ancak makinelerden sorumlu şirketleri açıklamadı.
Çin uzun zamandır özellikle kritik yarı iletken teknolojisinde yabancı tedarikçilere olan bağımlılığını azaltmaya çalışıyor, ancak hala büyük ölçüde ASML’nin makinelerine bağımlı. ASML’nin gelişmiş DUV araçlarını satmak için Hollanda hükümetinden ihracat lisansı alması gerekiyor, bu da temelde Çinli kuruluşların bu makineleri alamayacağı anlamına geliyor.
Devlete ait bir şirket olan SMEE, Çin’in yerli litografi sistemleri geliştirmek için en iyi seçeneği olarak görülüyor. Ancak SMEE, ASML ve diğer küresel rakiplerinin önemli ölçüde gerisinde kalıyor. Geçtiğimiz yıl SMEE, 28nm sınıfı süreç teknolojilerini kullanarak çip üretebilen bir litografi aracı sergiledi. Ancak şirketin hala bu sistemin seri üretimine başlaması gerekiyor.
Bu zorluklara rağmen SMEE önemli adımlar attı. Mart 2023’te şirket EUV litografi teknolojisi için bir patent başvurusunda bulundu. Bu gelişme, uluslararası yaptırımlar ve ticari kısıtlamaların getirdiği engellere rağmen bazı ilerlemeler kaydedildiğini gösteriyor.
